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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...

비아필링에 있어서 도금의 성장과 석출과정의 형태등의 메카니즘을 조사

인쇄회로 · 일렉트로닉스실장학회 · 강연대회논문 24권 2010년 · 和久田 陽平 · 杉本 将治 외 .. 참조 8회

아스펙비가 다른 트렌치를 가진 부도체상에 균일한 도전막형성을 목적으로하여, 도금욕조성의 변화와 균일석출성에 관여하는 인자에 관하여 고찰

니켈/Ni · 일렉트로닉스실장학회 · n/a · 岡部 敏之 · 西脇 泰二 외 .. 참조 15회

가용성 양극의 결점을 보충하고, 불용성양극를 사용하기 위한 실용성을 검토하고, 첨가제의 분석에 관한 실험 보고

구리/합금 · na · na · 萩原秀樹 · 君승塚一 외 .. 참조 45회

마이크로 트렌치내의 무전해 니켈도금에 있어서, 착화제의 영향이 크므로, 이들의 석출거동에 관하여 전기화학적 방법으로 검토 [高アスペクトトレンチ内における無電解ニッケルめっきの均一析出性]

니켈/Ni · 일럭트로닉스실장학회 · 18권 SPACE 2004년 · 岡部 敏之 · 加藤 瑛 외 .. 참조 32회

최근 전자기기의 소형화 고기능화에 따라 전극의 미세화, 배선의 미세 피치화 및 회로의 독립화가 진행되어, 전자부품과 회로기판 등의 접합 납땜 젖음성 전기전도성 그리고 내식성이 뛰어난 무전해금 Au 도금이 요구되고 있다. 일반적으로 도금욕은 욕안정성이 뛰어난 시안화물 이온을 착화제로 이용한...

니켈/Ni · 関東学院大学 · na · 山本誠二 · 中里純一 외 .. 참조 37회